极紫外激光干涉光刻
2025-02-13 13:53:07
unistar
- 相关产品：
依托尖端设备和丰富的经验，我们能够为客户提供从设计到成品的一站式解决方案，涵盖电子束光刻、激光直写、X射线光刻、双光子聚合、极紫外激光干涉光刻、紫外光刻、电镀等多种核心技术。产品线包括菲涅耳波带片、纳米级光栅、金刚石光学器件、纳米分辨率测试卡、3D分辨率测试卡等。菲涅耳波带片分辨率可低至<10nm，凭借独特的 Ir-线倍增技术，可以获得精确到 5nm 的 X 射线束聚焦。
极紫外激光干涉光刻
极紫外激光干涉光刻是一种利用极紫外光（通常波长为13.5nm）与干涉光学技术结合的先进微纳加工方法。通过两束或多束相干极紫外激光的干涉，形成周期性强度分布的光场，直接曝光光刻胶，在基底上生成纳米级高精度图案。适合大面积周期性结构的高效制造。
Phable R200 光刻机
最小特征尺寸为60nm，适合大面积周期性结构的图案化。
支持8英寸晶圆加工，曝光均匀性优于3%。
提供前侧对准和手动叠加对准功能，确保高精度加工。
应用
大面积纳米图案光刻，适用于大规模生产
衍射光栅和其他周期性结构的制造