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台式XAFS、XES分析系统的发展解析
一X射线光谱学的发展现状？x射线光谱学研究通常使用同步辐射源进行，因为同步辐射源能提供高亮度、相干、能量可调的单色X光。然而，基本同步辐射X射线发射光谱(XES)和X射线吸收光谱(XAS)的分析仪器，却受到同步辐射的数量少和分析机时少的限制。使得很多的分析需求的科研工作者和工业客户（Li电池公司，药企）没法申请到同步辐射机时。X射线吸收精细结构光谱（XAFS）作为一种描绘局部结构的方法，让人捉摸不
2022-12-02
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单色微 X 射线荧光 (MµXRF)
微 X 射线荧光 (µXRF) 是一种元素分析技术，它允许使用单色射线检测非常小的样品区域（通常直径为几十至几百微米）。X 射线光学晶体可捕获来自大角度发散源的 X 射线，并将其重新引导至样品表面上形成强聚焦光束，以此来增强 µXRF 应用。单色 µXRF（或称 MµXRF）采用了双曲面弯晶光学晶体，这种晶体可将高强度微米级单色 X 射线束引导至样品表面，用于加强元素分析。与 µXRF 技术相比，
2021-07-14 Karida
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单色波长色散 X 射线荧光 (MWD XRF)
双曲面弯晶可用于增强传统的波长色散 XRF 仪器。这些基于衍射的光学晶体能够使用低功率空气冷却式 X 射线管产生高强度单色 X 射线束。根据布拉格衍射定律，这些三维形状的光学晶体选择性地反射用于样品激发的极窄 X 射线波长带。单色波长色散 X 射线荧光 (MWD XRF) 分析仪使用两个双曲面弯晶光学晶体。典型仪器包括低功率 X 射线管、用于激发的点对点聚焦光学晶体、样品池、用于荧光收集的第二聚焦
2021-07-14 Karida
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XRF
什么是 XRFX 射线荧光 (XRF) 是一种强大的定量和定性分析工具，用于材料的元素分析。它非常适合测量薄膜厚度和成分，按固体和溶液的重量测定元素浓度，以及鉴定复杂样品基质中的特定元素和微量元素。XRF 分析广泛应用于半导体、电信、微电子、金属加工和精炼、食品、医药、化妆品、农业、塑料、橡胶、纺织品、燃料、化学品和环境分析等许多行业。该方法快速、准确、无损，几乎无需样品制备。XRF 如何工作当样
2021-07-14
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![平行光束 X 射线衍射分析]()
平行光束 X 射线衍射分析
传统 XRD 的主要缺点在于，它通常基于具有高功率要求的庞大设备。此外，大多数传统仪器使用仲聚焦布拉格-布伦塔诺几何结构，提供高分辨率和高强度光束分析等优点，但需要应对非常精确的校直要求并需要精心制备样品。此外，这种几何结构要求从源到样品的距离是恒定的，并且等于样品到检测仪的距离。因此产生的误差常常导致相鉴定困难和量化不当。错误定位的样品、部分透明的样品或粗糙的样品可能导致不可接受的样品位移误差。
2021-07-14 Karida
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![聚焦式X射线荧光]()
聚焦式X射线荧光
XRF 的应用：共焦 X 射线荧光 打印共焦几何结构使用两个多毛细管聚焦光学晶体来增强 XRF 元素分析应用。激发光学晶体将小束 X 射线聚焦到样品上。检测光学晶体从样品收集荧光 X 射线。具体而言，元素浓度是在由激发光学晶体的输出焦斑与收集光学晶体的输入焦斑的交点所确定的小探测范围（“共焦范围”）内测量的。该方法可用于放射性物质中元素的检测和量化。多毛细管聚焦光学晶体用作空间滤波器，以
2020-03-02 Karida
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![X射线荧光分析概述]()
X射线荧光分析概述
X射线荧光分析概述（ED-XRF、WD-XRF、XES）目前有许多方法可以激发和探测X射线荧光。激发和分析的选择取决于研究的科学和技术需求。目前常用的三种息息相关的X射线荧光（XRF）分析方法为：能量色散XRF（ED-XRF），波长色散XRF（WD-XRF）和 X射线发射光谱（XES）。前两种技术是具有广泛工业和研究应用的主力方法， XES一直局限于同步加速器光源。目前用户自搭建XES系统可以得到
2020-03-02
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![高精度X射线荧光]()
高精度X射线荧光
高清 X 射线荧光 (HDXRF) 的优点 打印 XOS 将HDXRF技术应用于玩具和消费品中的管制元素的快速检测高清 X 射线荧光 (HDXRF) 是新一代管制元素检测技术，可帮助制造商和监管机构解决这一重要的公共健康问题。HDXRF 将快速检测和精确度的优势进行了前所未有的结合。HDXRF 的优点快速得出结果更快的测量速度使其能够检查更多的玩具；比传统分析技术快 100 多
2019-08-23
