电子束光刻
2025-02-13 13:52:33
unistar
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依托尖端设备和丰富的经验，我们能够为客户提供从设计到成品的一站式解决方案，涵盖电子束光刻、激光直写、X射线光刻、双光子聚合、极紫外激光干涉光刻、紫外光刻、电镀等多种核心技术。产品线包括菲涅耳波带片、纳米级光栅、金刚石光学器件、纳米分辨率测试卡、3D分辨率测试卡等。菲涅耳波带片分辨率可低至<10nm，凭借独特的 Ir-线倍增技术，可以获得精确到 5nm 的 X 射线束聚焦。
电子束光刻
利用聚焦电子束在涂有电子敏感抗蚀剂（如PMMA）的基底上直写图案。当电子束照射抗蚀剂时，会引起分子链断裂或化学变化，从而改变抗蚀剂的溶解特性。经过显影处理后，未被曝光或被曝光的部分会被去除，形成所需的微纳结构。它以极高的分辨率著称，适用于制作微小且复杂的纳米结构。
Raith/Vistec EBPG 5000Plus 电子束光刻机
高精度加工，最小特征尺寸可达10nm
适用于各种薄膜基底（如Si、Si₃N₄、SiC、金刚石）上的纳米结构制造
支持4英寸晶圆加工
KIT/IMT）EBPG5200Z 电子束光刻系统
最高精度与分辨率结合快速图案化能力
能够制作特征尺寸小至100nm、高度达2µm的微结构
模式放置极其精确，误差小于100nm，适用于大面积（数厘米）范围
应用
X射线掩模的设计与制造
小周期X射线光栅的高性能要求
高分辨率菲涅尔波带片和其他精密纳米结构