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使用抗辐射聚合物制造的X射线折射光学元件（CRL）
Author：Josephine Gutekunst1, Joachim Schulz12, Arndt Last21Microworks GmbH, Karlsruhe, Germany2 KIT / IMT, Karlsruhe, Germany一RefractionX射线折射 — 一项特殊的技术挑战与可见光不同，X 射线光子的短波长或高能量会导致与原子核附近的电子相互作用，而不是与原子之间的
2024-11-18 Cavan
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传感器制造中常见的半导体材料及应用概览-PART.1
随着科技的快速发展，半导体传感器以其高灵敏度、低成本、小型化和集成化等优点，正在各个领域中发挥着越来越重要的作用。本文将介绍传感器制造中常见的四种半导体材料以及它们的相关应用。此篇介绍第一种材料-硅。1硅传感器的生产制造200mm的硅晶圆正在进入退火炉硅是对人类最有用的元素之一，因为绝大多数半导体器件都是以硅为基础制成的。目前，相较其他传感器材料而言，硅它可以制成更大的晶圆，具有更好的价格优势同时
2024-11-18 Cavan
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会议预告-PRORA Berlin 2024 ▪ X射线分析及其工业应用顶级会议
从回收和环境分析到 X 射线成像的突破，PRORA 是德国工业技术创新的中心。今年的 X 射线分析会议将有来自研究机构、大学和工业公司的演讲和海报投稿，除了经验丰富的同行，众多专业学生和年轻科学家也都受邀参加。本次会议将再次举办工业展览，邀请了 X 射线分析设备和配件制造商以及相应技术的用户进行展示。本次，德国深耕X射线领域的厂商均报名参与本次会议，包括SPECTRO AnalyticalInst
2024-11-13 Cavan
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新篇章！瑞士领先的纳米光学器件制造商XRnanotech收购Microworks公司
Breaking News!本月，来自瑞士领先的纳米技术光学器件制造商XRnanotech正式宣布完成对Microworks的收购！这一战略性的举措不仅标志着两家公司在各自领域内的重大突破，更是将XRnanotech在纳米技术领域的开创性进展与Microworks在微米领域的尖端优势进行了完美融合。从此，双方将携手并进，共同突破科技的界限，为全球客户带来从微米到纳米尺度的全方位解决方案。作为XRn
2024-10-28 Cavan
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![所见即所得：混合光子计数探测器—您的调光神器]()
所见即所得：混合光子计数探测器—您的调光神器
调光系统结构不紧凑，调光步骤复杂，调光存在安全隐患……你还在用传统的平板探测器调光吗？那你真的有必要知道这款由捷克Advacam公司提供的像素化的小型混合光子计数探测器MiniPIX，它具有单光子灵敏和能量阈值设定等特点，可以同时获得光斑的位置、尺寸和强度分布信息，体积仅有U盘大小，让你从此告别复杂的低灵敏的光路调节。图1 MiniPIX探测器实物图经过多年的市场和实验验证，MiniPIX在实现光
2024-10-18 Cavan
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![显微知著，启迪未来 - 2024全国电子显微学学术年会将于东莞盛大召开]()
显微知著，启迪未来 - 2024全国电子显微学学术年会将于东莞盛大召开
CLICK点击蓝字 关注我们在新质生产力创新起主导作用的今天，显微学人以振兴电子显微学事业发展为己任，瞄准国家重大需求和国际前沿科学问题，不断为我国卡脖子难题的攻克贡献中国电子显微学者不可或缺的重要力量。本届电子显微学学术年会将展示显微学相关理论、仪器制造、技术和实验方法的最新进展，意在促进电镜及其他显微学仪器的运行、管理、维护、开放共享，实验平台的建设和发展的交流。众星将在本次大会上带来在EM
2024-10-18 Cavan
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![新的X射线世界纪录：以4nm的分辨率观察微芯片内部结构]()
新的X射线世界纪录：以4nm的分辨率观察微芯片内部结构
Paul Scherrer Institute (PSI) 的研究人员与洛桑联邦理工学院、苏黎世联邦理工学院和南加州大学合作，利用 X 射线技术取得了重大突破。利用PSI 瑞士光源 SLS 发出的 X 射线，并采用由瑞士XRnanotech公司提供的最外环宽度为30nm，高度为400nm的FZP（菲涅尔波带片）聚焦，以前所未有的高分辨率观察了微芯片内部结构，实现了4nm的图像分辨率，创下了新的世界
2024-10-18 Cavan
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![一款用于EUV光化检测的光源]()
一款用于EUV光化检测的光源
掩膜检测的重要性掩膜检查在半导体制造中至关重要，特别是在光刻过程中，掩膜（也称为光掩膜）用于将电路图案转移到半导体晶圆上。 1. 图案准确性关键尺寸（CD， critical dimention）控制：掩膜定义了转移到晶圆上的特征。掩膜中的任何缺陷或偏差都可能导致晶圆上的特征尺寸不准确，从而影响最终半导体器件的性能。套准精度：掩膜在曝光过程中必须与晶圆精确对准。即使是轻微的错位也会导致套准误差，影
2024-10-18 Cavan
