双光子聚合
2025-02-13 13:52:57
unistar
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依托尖端设备和丰富的经验，我们能够为客户提供从设计到成品的一站式解决方案，涵盖电子束光刻、激光直写、X射线光刻、双光子聚合、极紫外激光干涉光刻、紫外光刻、电镀等多种核心技术。产品线包括菲涅耳波带片、纳米级光栅、金刚石光学器件、纳米分辨率测试卡、3D分辨率测试卡等。菲涅耳波带片分辨率可低至<10nm，凭借独特的 Ir-线倍增技术，可以获得精确到 5nm 的 X 射线束聚焦。
双光子聚合
双光子灰度光刻是一种基于非线性光学效应的微纳加工技术。其原理是利用高强度飞秒激光，使材料中的光敏分子同时吸收两个低能量光子（总能量等于单光子吸收的能量），从而引发聚合反应。由于双光子吸收仅发生在激光焦点处的高能密度区域，能够通过逐层构建实现复杂形状的高精度制造。因此可以实现三维精密结构的制造。
Nanoscribe GT 设备
全3D制造能力，最小特征尺寸小于200nm。
支持多种材料，包括可选铝氧化物涂层以提高分辨率和对比度。
从设计到成品的一站式服务
Nanoscribe Quantum X 设备
最新技术，结合灰度光刻的卓越性能与双光子聚合（2PP）的精度和灵活性。
无掩模光刻系统，适合各种2.5D结构的工业制造。
应用
表面图案、平面微光学器件（包括自由曲面透镜和微透镜阵列）。
多级衍射光学元件。
示例微结构
高纵横比微透镜阵列：50µm
菲涅尔透镜：100µm