独家授权-极紫外/X射线哈特曼波前传感器

沙克-哈特曼（或有时哈特曼-沙克）波前传感器是最常见的波前传感器类型，以约翰内斯·弗朗茨·哈特曼和罗兰·沙克的名字命名

极紫外光刻技术已广泛应用于半导体制造中，用于生产先进的微电子芯片。EUV波前传感器可用于监测和控制EUV光源的波前特性，以确保高精度的图案制作。

在天文学中，EUV辐射是研究恒星、行星大气和宇宙射线等现象的重要工具。极紫外波前传感器可帮助天文学家测量和分析EUV辐射的波前特性，以更好地理解宇宙中的各种现象。

在等离子体物理实验中，EUV辐射通常用于生成和研究高温等离子体。极紫外波前传感器可用于测量等离子体内的波前畸变，有助于研究等离子体的性质和行为。

EUV激光研究也是一个重要领域，需要对EUV光源进行波前传感测量，这对于开发4EUV激光技术以及在科学和工业应用中使用EUV激光都至关重要。

总的来说，极紫外波前传感器在研究和应用EUV辐射的领域中发挥着重要作用，有助干测量和控制EUV光源的波前特性，从而提高各种应用的精确性和效率。

沙克-哈特曼（或有时哈特曼-沙克）波前传感器是最常见的波前传感器类型，以约翰内斯·弗朗茨·哈特曼和罗兰·沙克的名字命名，用于激光光束表征，能够实时预测激光辐射的传播行为，并对相干光源进行M2测定：采用Fresnel-Kirchhoff积分方法，通过同时记录强度和相位分布数据，可以计算出沿激光束路径的任何位置（特别是焦平面）的光束轮廓。传播后的轮廓与直接测得的相机数据非常吻合，这在处理非常小的焦点和波动光源的情况下尤为重要。

Hartmann-Shack极紫外波前传感器在各种领域中的应用主要集中在波前校正、光学系统性能优化和波前畸变测量等方面，以确保精确的波前控制和光学系统的高质量性能。

产品特点

• Hartmann wavefront sensor for coherent and incoherent radiation

• Compact and self-supporting

• Achromatic

• Actinic characterization of: EUVL plasma sources / Free Electron Lasers / HHG beams

• Real-time optics adjustment

• Single-pulse repeatability λ/116(wrms) for EUV ( λ=13.5 nm)

规格参数

• Wavelength range< 1 nm … 60 nm (quantum converter)

• Field of view: 9.0mm x 6.7 mm (larger on request)                         

• Dynamic range: 14 bit 

• Hartmann plate: precision pinholes φ75µm, 250µm pitch

• Tilt range: ±10 °

• x/y translation range: ±10mm

• UHV compatible, mounted on CF63 flange

参考用户

DESY -德国电⼦同步加速器

Elettra -意大利Trieste Elettra同步加速器

SLAC -美国国家加速器实验室

PTB -德国联邦物理技术研究院（PTB）

产品资料

EUV Wavefront Sensor-众星联恒.pdf