13.5nm菲涅尔波带片
衬度材料:SiO2 衬度材料厚度:~250nm支撑薄膜材料:Si支撑薄膜厚度:~200nm支撑薄膜透过率: 预计衍射效率>14% @13.5nm主要应用方向:相干衍射成像掩模版检测
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衬度材料:SiO2 衬度材料厚度:~250nm支撑薄膜材料:Si支撑薄膜厚度:~200nm支撑薄膜透过率: 预计衍射效率>14% @13.5nm主要应用方向:相干衍射成像掩模版检测
衬度材料:SiO2
衬度材料厚度:~250nm
支撑薄膜材料:Si
支撑薄膜厚度:~200nm
支撑薄膜透过率:~70%
预计衍射效率>14% @13.5nm
主要应用方向:
相干衍射成像
掩模版检测
EUV显微成像
角分辨光电子能谱